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东莞市凯华纳米科技有限公司
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光学薄膜的真空镀膜设备


来源:纳米喷镀|材料|设备|加工|镜面涂装|纳米高分子泡镀|离子镀|真空镀 作者:邓工镜面涂装

 光学薄膜的真空镀膜设备 

 
型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 
制造时间:2003年 
状态:运行极好 
生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 
技术规格: 
真空腔体尺寸: φ1100mmxH 1600mm 
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm) 
耐加热系统: φ20mm 4kw 
蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  
JEBG-102UHO(φ35ccx20) 
JST-16F (16kw)  
IAD 系统: 无 
光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass φ30x30) 
石英晶体微天平监控器: 无 
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 
加热系统: 最大350℃±10℃(36kw) 
 
 
 
型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 
制造时间:2003年8月 
状态:运行极好 
生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 
技术规格: 
真空腔体尺寸: φ1150mmxH 1500mm 
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm) 
耐加热系统: φ20mm 4kw 
蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  
G-12100(φ35ccx20) 
D-10001 (10kw)  
IAD 系统: 无 
光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass φ10x60pcs) 
石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 
加热系统: 300℃±10℃(21kw) 
 
光学薄膜的真空镀膜设备 
 
型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 
制造时间:2003年 
状态:运行极好 
生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 
技术规格: 
真空腔体尺寸: φ1100mmxH 1600mm 
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm) 
耐加热系统: φ20mm 4kw 
蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  
JEBG-102UHO(φ35ccx20) 
JST-16F (16kw)  
IAD 系统: 无 
光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass φ30x30) 
石英晶体微天平监控器: 无 
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 
加热系统: 最大350℃±10℃(36kw) 
 
 
 
型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 
制造时间:2003年8月 
状态:运行极好 
生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 
技术规格: 
真空腔体尺寸: φ1150mmxH 1500mm 
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm) 
耐加热系统: φ20mm 4kw 
蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  
G-12100(φ35ccx20) 
D-10001 (10kw)  
IAD 系统: 无 
光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass φ10x60pcs) 
石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 
加热系统: 300℃±10℃(21kw) 
光学薄膜的真空镀膜设备 
 
型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 
制造时间:2003年 
状态:运行极好 
生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 
技术规格: 
真空腔体尺寸: φ1100mmxH 1600mm 
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm) 
耐加热系统: φ20mm 4kw 
蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  
JEBG-102UHO(φ35ccx20) 
JST-16F (16kw)  
IAD 系统: 无 
光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass φ30x30) 
石英晶体微天平监控器: 无 
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 
加热系统: 最大350℃±10℃(36kw) 
 
 
 
型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 
制造时间:2003年8月 
状态:运行极好 
生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 
技术规格: 
真空腔体尺寸: φ1150mmxH 1500mm 
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm) 
耐加热系统: φ20mm 4kw 
蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  
G-12100(φ35ccx20) 
D-10001 (10kw)  
IAD 系统: 无 
光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass φ10x60pcs) 
石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 
加热系统: 300℃±10℃(21kw) 
光学薄膜的真空镀膜设备 
 
型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 
制造时间:2003年 
状态:运行极好 
生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 
技术规格: 
真空腔体尺寸: φ1100mmxH 1600mm 
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm) 
耐加热系统: φ20mm 4kw 
蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  
JEBG-102UHO(φ35ccx20) 
JST-16F (16kw)  
IAD 系统: 无 
光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass φ30x30) 
石英晶体微天平监控器: 无 
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 
加热系统: 最大350℃±10℃(36kw) 
 
 
 
型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 
制造时间:2003年8月 
状态:运行极好 
生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 
技术规格: 
真空腔体尺寸: φ1150mmxH 1500mm 
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm) 
耐加热系统: φ20mm 4kw 
蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  
G-12100(φ35ccx20) 
D-10001 (10kw)  
IAD 系统: 无 
光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass φ10x60pcs) 
石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 
加热系统: 300℃±10℃(21kw) 
光学薄膜的真空镀膜设备 
 
型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 
制造时间:2003年 
状态:运行极好 
生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 
技术规格: 
真空腔体尺寸: φ1100mmxH 1600mm 
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm) 
耐加热系统: φ20mm 4kw 
蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  
JEBG-102UHO(φ35ccx20) 
JST-16F (16kw)  
IAD 系统: 无 
光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass φ30x30) 
石英晶体微天平监控器: 无 
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 
加热系统: 最大350℃±10℃(36kw) 
 
 
 
型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 
制造时间:2003年8月 
状态:运行极好 
生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 
技术规格: 
真空腔体尺寸: φ1150mmxH 1500mm 
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm) 
耐加热系统: φ20mm 4kw 
蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  
G-12100(φ35ccx20) 
D-10001 (10kw)  
IAD 系统: 无 
光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass φ10x60pcs) 
石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 
加热系统: 300℃±10℃(21kw) 
光学薄膜的真空镀膜设备 
 
型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 
制造时间:2003年 
状态:运行极好 
生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 
技术规格: 
真空腔体尺寸: φ1100mmxH 1600mm 
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm) 
耐加热系统: φ20mm 4kw 
蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  
JEBG-102UHO(φ35ccx20) 
JST-16F (16kw)  
IAD 系统: 无 
光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass φ30x30) 
石英晶体微天平监控器: 无 
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 
加热系统: 最大350℃±10℃(36kw) 
 
 
型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 
制造时间:2003年8月 
状态:运行极好 
生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 
技术规格: 
真空腔体尺寸: φ1150mmxH 1500mm 
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm) 
耐加热系统: φ20mm 4kw 
蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  
G-12100(φ35ccx20) 
D-10001 (10kw)  
IAD 系统: 无 
光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass φ10x60pcs) 
石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 
加热系统: 300℃±10℃(21kw) 
 
光学薄膜的真空镀膜设备 
 
型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 
制造时间:2003年 
状态:运行极好 
生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 
技术规格: 
真空腔体尺寸: φ1100mmxH 1600mm 
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm) 
耐加热系统: φ20mm 4kw 
蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  
JEBG-102UHO(φ35ccx20) 
JST-16F (16kw)  
IAD 系统: 无 
光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass φ30x30) 
石英晶体微天平监控器: 无 
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 
加热系统: 最大350℃±10℃(36kw) 
 
 
 
型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 
制造时间:2003年8月 
状态:运行极好 
生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 
技术规格: 
真空腔体尺寸: φ1150mmxH 1500mm 
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm) 
耐加热系统: φ20mm 4kw 
蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  
G-12100(φ35ccx20) 
D-10001 (10kw)  
IAD 系统: 无 
光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass φ10x60pcs) 
石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 
加热系统: 300℃±10℃(21kw)
 
光学薄膜的真空镀膜设备 
 
型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 
制造时间:2003年 
状态:运行极好 
生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 
技术规格: 
真空腔体尺寸: φ1100mmxH 1600mm 
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm) 
耐加热系统: φ20mm 4kw 
蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  
JEBG-102UHO(φ35ccx20) 
JST-16F (16kw)  
IAD 系统: 无 
光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass φ30x30) 
石英晶体微天平监控器: 无 
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 
加热系统: 最大350℃±10℃(36kw) 
 
 
 
型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 
制造时间:2003年8月 
状态:运行极好 
生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 
技术规格: 
真空腔体尺寸: φ1150mmxH 1500mm 
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm) 
耐加热系统: φ20mm 4kw 
蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  
G-12100(φ35ccx20) 
D-10001 (10kw)  
IAD 系统: 无 
光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass φ10x60pcs) 
石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 
加热系统: 300℃±10℃(21kw)
 
光学薄膜的真空镀膜设备 
 
型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 
制造时间:2003年 
状态:运行极好 
生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 
技术规格: 
真空腔体尺寸: φ1100mmxH 1600mm 
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm) 
耐加热系统: φ20mm 4kw 
蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  
JEBG-102UHO(φ35ccx20) 
JST-16F (16kw)  
IAD 系统: 无 
光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass φ30x30) 
石英晶体微天平监控器: 无 
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 
加热系统: 最大350℃±10℃(36kw) 
 
 
 
型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 
制造时间:2003年8月 
状态:运行极好 
生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 
技术规格: 
真空腔体尺寸: φ1150mmxH 1500mm 
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm) 
耐加热系统: φ20mm 4kw 
蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  
G-12100(φ35ccx20) 
D-10001 (10kw)  
IAD 系统: 无 
光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass φ10x60pcs) 
石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 
加热系统: 300℃±10℃(21kw)

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